微电子
微电子
Microelectronics
概况
随着微电子技术的迅猛发展,其设计日益小型化和复杂化,微电子(半导体制造、光伏、LED)工艺要求也越来越严苛。在各个湿制程工艺环节需要大量的不同介质,对于关键工艺的介质,超洁净、安全可靠的输送方案极为重要。
工艺流程概述
批量化学品输送
批量化学品输送
微电子制造过程中需要用到大量的各种化学品,其输送过程不被污染至关重要,槃实科技提供超洁净的泵,是批量化学品输送的理想选择。
涂胶显影
涂胶显影
光刻工艺中,均匀无污染的光刻胶厚度是影响良率的重要因素,槃实科技的磁悬浮无轴承泵可以对光刻胶、显影液提供最洁净和精确可靠的输送方案。
湿法刻蚀
湿法刻蚀
刻蚀工艺中,选择性和方向性非常重要,槃实科技的泵能提供高可控性和无脉动的流量,能精准、可靠且纯净的输送刻蚀剂。
湿法清洗
湿法清洗
磁悬浮无轴承泵不会污染泵送的介质,是最洁净的泵,已成为超纯清洗工艺的行业标准。
电镀
电镀
电镀工艺中,槃实科技的磁悬浮无轴承泵可以提供稳定的电解液流量,保障电镀工艺的均匀性。
化学机械抛光(CMP)
化学机械抛光(CMP)
Slurry的一致性是化学机械抛光(CMP)工艺均匀性的关键,槃实科技的磁悬浮无轴承泵宽间隙的设计和低剪切力的特性可以有效避免Slurry的聚集,减少划痕,从而保障其良率。
应用场景
湿法清洗
高洁净度是清洗工艺环节的标准,高纯度的清洗药液是首要保障,槃实科技提供超洁净的泵,是该工艺的不二之选。
湿法清洗
CMP
Slurry的一致性是化学机械抛光(CMP)工艺均匀性的关键,槃实科技的磁悬浮无轴承泵宽间隙的设计和低剪切力的特性可以有效避免Slurry的聚集,减少划痕,从而保障其良率。
CMP
电镀
电镀工艺中,磁悬浮无轴承泵可提供稳定的电解液流量,保障电镀工艺的均匀性。
电镀
批量化学品输送
磁悬浮无轴承泵是最洁净的泵,批量化学品输送过程中几乎零污染,是超纯净和安全的工艺流程标准。
批量化学品输送
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